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deposizione fisica da vapore - wikipediaLa deposizione fisica da vapore o Physical Vapor Deposition, spesso abbreviata in PVD, è un metodo comune per la deposizione di film sottili sottovuoto, è una tecnica molto diffusa per la fabbricazione di dispositivi elettronici, ma anche diffusamente utilizzata ad esempio per la fabbricazione degli specchi, ottenuti depositando un sottile strato d'alluminio su una lastra di vetro.
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le deposizioni atmosfericheIl primo riferimento normativo europeo nel campo del controllo delle deposizioni di sostanze inquinanti è la direttiva 2004/107/CE, che mira sia alla definizione di metodi comuni per la valutazione della deposizione di arsenico, cadmio, mercurio, nichel e idrocarburi policiclici aromatici sia alla raccolta di informazioni esaurienti in merito alle deposizioni di tali sostanze.
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